반도체 웨이퍼 제조

첨단 광학 부품, 레이저 및 복합 소재를 활용하여 처리량과 수율을 극대화할 수 있는 장비를 구축합니다.

  • 极致稳定 使用热创新材料构建光刻和晶圆处理工具。
  • 提高良品率 有多种激光器供选择,可支持几乎任何检测任务。
  • 可靠的 EUV 光刻 使用质量一流的 CO₂ 激光器光学元件和金刚石窗口片,确保高可靠性和长使用寿命。
FEOL 포토리소그래피
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在任何节点都提供出色性能

从尖端的 3 nm 芯片到成熟的 100 nm+ 工艺,均可使用 Coherent 高意的激光器、光学元件和先进复合材料来构建工具,以确保一致、经济高效且可靠的操作。我们的创新材料(包括混合陶瓷和碳化硅)可打造出能够满足 EUV 光刻的严苛要求的机械部件,正如我们的激光器光学元件和金刚石窗口片一样。此外,我们的一整套激光器可支持几乎任何检测任务,以及执行打标和退火等各种材料加工作业。

그럼 시작해 봅시다

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半导体晶圆制造产品