반도체 장비 – FEOL 포토 공정
최첨단 광학 및 기계 소재와 부품을 사용하여 처리량과 수율을 극대화하는 장비를 구축합니다.
- 우리는 극도의 안정성과 열적 혁신성을 갖춘 소재를 기반으로 한 부품으로 웨이퍼 가공 공구를 제작합니다.
- 내구성이 뛰어난 다결정 CVD 다이아몬드 창과 같은 수명이 더 긴 광학 장치의 장점을 활용합니다.
- 더욱 엄격해진 공차 기준을 충족하는 반응 결합 실리콘 카바이드(RB SiC)를 기반으로 한, 가장 평평한 웨이퍼 테이블의 장점을 누리십시오.
더 높은 해상도
극자외선(EUV) 리소그래피는 최대 5nm 이상의 IC 소자 구현이 가능합니다. 하지만 이러한 해상도에 도달하려면 진동 안정성, 열 크리프, 웨이퍼 테이블 평탄도 측면에서 리소그래피 시스템의 모든 부분에 걸쳐 엄격한 요구 사항을 충족해야 합니다. Coherent는 이러한 요구 사항에 부합하는 성능을 갖춘 기계 및 광학 기계 부품을 제작하기 위해 하이브리드 세라믹 및 실리콘 카바이드를 포함한 혁신적인 소재를 최초로 사용하고 있습니다. 또한 Coherent는 EUV 방사선의 고유한 요구 사항을 처리할 수 있는 광학 장치를 제공합니다.
지금 시작하세요.
귀사에 대한 몇 가지 정보를 제출해 주시면, 제품 전문가가 영업일 기준 2일 이내에 연락을 드릴 것입니다.
