UV 레이저 시스템
LTPS, LLO, LIFT, PLD, LA-ICP-MS 등에 최적화된 완벽한 광학 시스템을 갖춘 당사의 독보적인 고에너지 UV 레이저를 최대한 활용해 보십시오.
- 수직 통합: 당사의 내구성이 뛰어난 레이저, 광학 부품 및 기계 부품을 통해 위험을 방지하고 연중무휴 24시간 가동을 실현하십시오.
- 검증된 산업용 도구들은 고성능 모바일 디스플레이를 구현하는 것과 동일한 핵심 기술을 기반으로 합니다.
- UV 파장 : 193, 248, 308 nm 시스템 중 선택 가능하며, 157 또는 351 nm 맞춤형 옵션도 제공됩니다.
UV 레이저 공정에 당사의 전문성을 접목하다
UV 레이저 및 광학 시스템 분야에서 50년 간의 경험을 바탕으로, 당사는 엑시머 빔의 제어, 성형 및 집광 과정에서 발생하는 과제들을 잘 이해하고 있습니다. 또한 수직 통합 생산 체계를 통해 가장 엄격한 기준에 맞춰 완전한 시스템을 설계, 제조 및 조립하고 있습니다.
UV전사
UV전사 레이저 시스템은 차세대 마이크로LED 디스플레이 생산 분야의 전용 애플리케이션을 지원합니다.
- 고속 처리 - 고에너지 엑시머 레이저 넓은 조사 영역을 엑시머 레이저 .
- 미래에 대비한 설계 - 50µm에서 5µm에 이르는 다양한 다이 크기를 지원합니다.
- 연구 개발부터 양산에 이르는 전 과정을 아우르는 세 가지 턴키 솔루션.
라인빔
LineBeam UV 레이저 시스템은 대형 기판 패널에 저온 폴리실리콘(LTPS) 백플레인을 최고 수율로 대량 생산할 수 있게 합니다.
- 장형 빔 - 최대 1500mm.
- 높은 균일성 - 0.6 % (2σ).
- 넓은 초점 심도 - 최대 ±150 µm.
UV블레이드
UVblade 엑시머 레이저는 높은 광학적 효율과 라인 길이 및 에너지 밀도 측면에서 폭넓은 확장성을 갖춘 LLO(저온 레이저 오퍼레이션)를 위한 비용 효율적인 솔루션을 제공합니다.
- 높은 균일성 - 1.8 %
- 넓은 초점 심도 - 최대 ±200 µm.
- 높은 펄스 에너지 최대 2000 mJ.
엑시머 빔 전달 광학
높은 펄스 에너지, 짧은 자외선 파장, 그리고 높은 출력이 결합된 독특한 조건에 최적화된 엑시머 빔 전달용 최상의 광기계 도구를 만나보세요.
- Homogenize a Beam - <± 5% fluence variation.
- 가변 감쇠 - 정밀한 에너지 제어.
- 마스크 이미지 투영 - 4~10배 축소.
바리오라스
VarioLas 엑시머 UV 레이저는 강력한 COMPex 엑시머 레이저 기반으로 하며엑시머 레이저 선형 또는 사각형 빔 형상을 통해 고품질의 UV 미세 가공을엑시머 레이저 .
- 높은 에너지 밀도 - 최대 7.5 J/cm².
- 다용도로 활용 가능하며 조절 가능 - 원형 또는 사각형 프로파일.
- 높은 광학 분해능 - ≥ 5 µm.
지오라스GC
GeoLasGC 엑시머 UV 시스템은 193nm 펄스, 고성능 편광 현미경, HD 카메라 관찰 기능을 결합하여 레이저 절삭 활용됩니다.
- 높은 광학 분해능 - 1 µm.
- 가변 시료 스팟 - 2 - 160 µm.
- 높은 펄스 안정성 - 1 % (rms) .
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마이크로LED(µLED)는 선명하고 고해상도의 디스플레이를 구현하는 비교적 새로운 기술입니다. 향후 5년 내에 µLED 디스플레이 시장은 100억 달러 이상의 규모로 성장할 전망이며, 레이저 기술은 이러한 디스플레이 생산을 가능하게 하는 데 있어 핵심적인 역할을 담당하고 있습니다.
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