엑시머 레이저
고에너지 UV 펄스를 마이크로 전자공학, 디스플레이, 기초 과학 연구, 의료 및 박막 가공 분야에 활용하실 수 있습니다.
- 대형 필드 크기의 가공: 균일한 대면적 플랫탑 빔으로 시료 표면을 덮습니다.
- 조절 가능한 UV 출력: 시제품 제작부터 대량 생산까지, 적절한 출력 수준을 지원합니다.
- 탁월한 정밀도: 저온 박막 가공을 통해 레이저 에너지를 선택적으로 조사할 수 있습니다.
다양한 엑시머 레이저 제품군
당사는 50년에 걸친 엑시머 레이저 분야의 경험을 바탕으로, 고객이 용도에 적합한 엑시머 레이저를 사용할 경우 최상의 결과를 얻을 수 있다고 확신합니다. 이에 당사는 뛰어난 품질과 성능을 갖춘, 다양한 레이저 출력 및 에너지 옵션을 제공하고 있습니다.
ExciStar
ExciStar 탁상형 UV 엑시머 레이저는 각막 절삭술, 처방 렌즈 마킹, 광학 센서 제조 등 정밀한 작업을 위해 설계되었습니다.
- 고주파: 최대 1 kHz.
- 탁상형: 650 x 300 mm의 컴팩트한 디자인.
- 193 nm 또는 248 nm: 고정밀 마킹 및 절삭.
IndyStar
IndyStar 레이저는 잉크젯 노즐의 천공, 계측, 광학 테스트 등 고속 펄스가 필요한 응용 분야를 위해 설계된, 견고하고 듀티 사이클이 높은 UV 엑시머 레이저입니다.
- 높은 펄스 주파수: 연중무휴 24시간 가동이 요구되는 용도에서 최대 2 kHz의 높은 펄스 주파수를 구현합니다.
- 반도체 용도에 최적: Semi-S2 규격 준수.
- 193nm 모델과 248nm 모델: 리소그래피 개발, 마스크, 광학 시스템 테스트, 미세 가공.
COMPex
COMPex 까다로운 응용 분야를 위해 수백 mJ의 펄스 에너지를 높은 펄스 간 안정성과 뛰어난 빔 균일성과 함께 제공합니다.
- 고에너지: 수백 mJ.
- 파장 범용성: 193 nm, 248 nm, 308 nm, 351 nm.
- 박막 가공 지원: 웨이퍼 가공 및 펄스 레이저 증착(PLD).
LEAP
LEAP 엑시머 레이저는 고에너지, 고정밀 가공은 물론, 높은 듀티 사이클 출력, 높은 신뢰성, 낮은 소유 비용이라는 조건을 모두 충족합니다.
- 광범위한 출력 레벨 - 동일한 플랫폼에서 최대 600와트의 대량 생산, 사전 제작 및 개발을 지원합니다.
- 펄스 온디맨드 기능: 펄스 패턴을 가공 공정에 맞춰 조정함으로써 운영 비용을 최소화할 수 있습니다.
- 다용도성: 펄스 레이저 증착(PLD), 미세 구조 형성, 디스플레이 가공에 적합한 193 nm, 248 nm, 308 nm 모델 중에서 선택할 수 있습니다.
LAMBDA SX
LAMBDA SX는 생산 현장을 위한 산업용 UV 엑시머 레이저입니다. 안정적인 고에너지 펄스를 통해 안정적인 빔으로 대면적 UV 가공이 가능합니다.
- 고출력: 최대 600와트.
- 높은 펄스 에너지: 최대 1000 mJ.
- 높은 펄스 주파수: 최대 600Hz에서 3교대 대량 생산.
VYPER
VYPER의 1~수 kW급 UV 엑시머 레이저 플랫폼은 대량 디스플레이 생산에 필요한 매우 높은 처리량을 실현합니다.
- 초고출력: 최대 3600와트.
- 펄스당 최대 6줄에 달하는 매우 높은 펄스 에너지.
- 탁월한 에너지 안정성: 유기 EL 및 MicroLED 백플레인 가공에 대응합니다.
주목할 만한 블로그
MicroLED 디스플레이 제조 분야의 혁신
Coherent의 새로운 UV 전송 시스템은 레이저 리프트오프(LLO), 레이저 유도 전방 전송(LIFT), 그리고 수리/트리밍 기능을 갖춘 MicroLED 제조 분야에 혁신을 가져왔습니다.
시작할 준비가 되셨나요?
연락처를 알려주시면 전문가가 연락드리겠습니다.