UV 레이저 시스템
당사의 독보적인 고출력 자외선 레이저를 최대한 활용하십시오. 이 레이저는 LTPS, LLO, LIFT, PLD, LA-ICP-MS 등에 최적화된 완전한 광학 시스템 구성을 갖추고 있습니다.
- 수직 통합: 당사의 내구성이 뛰어난 레이저, 광학 부품 및 기계 장비를 활용하여 위험을 방지하고 연중무휴 가동을 실현하십시오.
- 오랜 기간 검증된 산업용 도구는 고성능 모바일 디스플레이를 구현하는 것과 동일한 기반 기술을 활용합니다.
- 자외선 파장 옵션은 193, 248 및 308 nm 시스템과 맞춤형 157 또는 351 nm 옵션 중에서 선택할 수 있습니다.
자외선 레이저 공정에 당사의 전문 지식을 적용하다
자외선 레이저 및 광학 시스템 분야에서 50년 동안 쌓아온 경험을 바탕으로, 당사는 엑시머 빔의 제어, 성형 및 집광과 관련된 과제들을 잘 이해하고 있습니다. 수직 통합을 통해 설계, 제조 및 조립된 당사의 통합 시스템은 까다로운 기준을 충족시킵니다.
UV전사
UVtransfer 레이저 시스템은 차세대 마이크로LED 디스플레이 생산을 위한 전용 애플리케이션을 지원합니다.
- 고처리량 - 고출력 엑시머 레이저가 넓은 조사 영역을 지원합니다.
- 미래 지향적 - 50 µm에서 5 µm에 이르는 칩 크기를 처리할 수 있습니다.
- 연구 개발부터 양산까지의 3가지 통합 공정 솔루션.
라인빔
LineBeam 엑시머 자외선 레이저를 사용하면 대형 기판 위에서 저온 폴리실리콘(LTPS) 백플레인을 대량으로 생산할 수 있으며, 수율이 매우 높습니다.
- 장거리 광선 - 최대 1500mm.
- 고도 균일성 - 0.6 % (2σ).
- 심도 - 최대 ±150 µm.
UV블레이드
UVblade 엑시머 레이저는 LLO에 비용 효율적인 솔루션을 제공하며, 파장 및 에너지 밀도 측면에서 높은 광학적 효율과 폭넓은 확장성을 갖추고 있습니다.
- 고도 균일도 - 1.8 %
- 심도 - 최대 ±200 µm.
- 높은 펄스 에너지 - 최대 2000 mJ.
엑시머 빔 전달 광학 부품
고펄스 에너지, 단파장 자외선 및 고출력의 독특한 조합에 최적화된, 엑시머 빔 전달용 최상의 광학 기계 장비를 확보하십시오.
- 均匀光束 - <± 5% 通量变化。
- 가변 감쇠 - 정밀한 에너지 제어.
- 마스크 이미지 투영 - 4~10배 축소.
바리오라스
VarioLas 엑시머 자외선 레이저기는 고성능 COMPex 레이저기를 기반으로 하며, 선형 또는 사각형 빔 형상을 이용한 고품질 자외선 미세 가공에 적합합니다.
- 에너지 밀도가 높음 - 최대 7.5 J/cm².
- 다기능이며 조절 가능 - 원형 또는 사각형 프로파일.
- 높은 광학 분해능 - ≥ 5 µm.
지오라스GC
GeoLasGC 엑시머 레이저 에칭 시스템은 193 nm 고펄스 에너지, 고성능 편광 현미경 및 고해상도 카메라 관측 등 다양한 기능을 통합하여 레이저 에칭 ICP-MS를 구현합니다.
- 높은 광학 분해능 - 1 µm.
- 가변 시료 입자 크기 - 2~160 µm.
- 고펄스 안정성 - 1 % (rms).
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